産総研：研究成果記事一覧

脳の「老化」と「若返り」を調節する因子[PDF:1.1MB]

老化した神経幹細胞を活性化する環境因子の発見

ダイヤモンドバイポーラトランジスタの開発[PDF:1MB]

省エネに大きく貢献する超低損失パワーデバイスの実現に道

電子相転移を用いた新原理トランジスタ開発へ前進

－電圧により強相関電子材料を絶縁体から金属へ変化させることに成功－

サブマイクロメートル球状粒子を利用した光散乱体を開発

－高屈折率材料の球状粒子作製技術を利用－

フェムト秒レーザーによる酸化グラフェンの非熱的還元を提案

－グラフェン製造の新たな方法を第一原理計算でシミュレーション－

タンパク質合成因子のRNA合成における新たな役割を解明

－翻訳因子がRNA合成因子として働いていた可能性－

新たな原理による強誘電抵抗変化メモリーを開発

－データ書き換え特性や保持特性の低下問題を解決－

熱拡散率の精密測定[PDF:1.2MB]

材料固有の熱拡散率の評価方法を確立

トランジスタの接合位置を精密制御[PDF:1.2MB]

16nm世代以降のMOSトランジスタの新たな接合技術として期待

新しい有機半導体単結晶薄膜の製造技術[PDF:1.1MB]

印刷製造した薄膜トランジスタの世界最高性能を実現

多結晶シリコン太陽電池の新しい作製方法[PDF:1.2MB]

固定砥粒方式でスライスしたウエハーのテクスチャー形成技術

階層構造をもつナノシステム材料

－生体の複雑な階層構造を模倣したナノシステム材料の作製技術－

４省の生命科学系データベース合同ポータルサイトｉｎｔｅｇｂｉｏ．ｊｐを開設

－オールジャパン体制へ－

14 nm世代立体型トランジスタの特性ばらつきの主要因を解明

－14 nm世代以降のSRAMをはじめとする集積回路の歩留まり向上に貢献－

絶縁体基板表面へのグラフェンの吸着機構を理論的に解明

－ポストシリコンに向けての一歩－

新しい1GHz超EMI測定電波暗室の評価法[PDF:1.1MB]

電波暗室評価システムと技能試験法の開発

世界初の超微細III-V/Ge CMOSトランジスタ[PDF:1.1MB]

高性能異種チャネルCMOSへの新たな道筋

糖鎖プロファイリング技術でiPS細胞を精密診断[PDF:1.3MB]

転高密度レクチンアレイで新規未分化マーカーを発見

金属箔を基板に用いたフレキシブルCIGS太陽電池[PDF:1.0MB]

集積型CIGSサブモジュールで光電変換効率15%を達成

リボソームに翻訳以外の機能があることを発見

－リボヌクレアーゼT2の阻害－