独立行政法人 産業技術総合研究所（以下、「産総研」という）と米国ニューヨーク州立大学ナノスケール理工学カレッジ（CNSE: College of Nanoscale Science and Engineering）は、2010年9月30日、ナノテクノロジー、エレクトロニクス等の分野における協力関係についての包括的研究協力覚書（MOU）に署名しました。
産総研は世界水準の先端ナノテク研究設備・人材が集積するつくばにおいて（独）物質・材料研究機構、筑波大学と共に産業界の協力も得てつくばイノベーションアリーナ（TIA）と呼ばれる世界的なナノテク研究拠点形成を目指して活動しています。また、ニューヨーク州立大学はニューヨーク州オルバニー市においてナノテク拠点としてCNSEを設立し、現在ではIBM(International Business Machines Corporation)・株式会社東芝・ルネサスエレクトロニクス株式会社・東京エレクトロン株式会社・SEMATECH（Semiconductor Manufacturing Technology）等が参画し、世界的に著名な研究拠点のひとつAlbany NanoTechとして認識されています。
産総研とCNSEはこれまで国際ワークショップを共催するなど、研究拠点活動の推進に向けた人材交流や情報交換を重ねてきました。今般のMOUはこれまでの連携をより強固なものとするべく、ナノテクノロジー、エレクトロニクス等の分野における共同研究、人材交流、合同シンポジウム開催を通じてお互いのナノテク研究拠点活動を推進し、産業競争力を強化することを目指しています。
産総研は工業技術院時代からデバイス技術の研究開発と産業化に取り組んでおり、多くの実績を有しています。これら実績を基に産総研はTIAの活動に大きく貢献することが期待されており、今後産総研とCNSE両者は具体的な協力と連携活動に関する協議を進める予定となっています。