国立研究開発法人産業技術総合研究所が参加している技術研究組合 最先端半導体技術センター(LSTC)が、国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)の「ポスト5G 情報通信システム基盤強化研究開発事業/先端半導体製造技術の開発(委託)」において、「Beyond 2nm 及び短 TAT 半導体製造に向けた技術開発」と「2nm 世代半導体技術によるエッジ AI アクセラレータの開発」に採択されました。
詳細については、下記のLSTCのホームページをご覧ください。
https://www.lstc.jp/news/LSTC_press_20240209.pdf [PDF:127KB]
国立研究開発法人 産業技術総合研究所
ブランディング・広報部 報道室
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